PVD是英文PhysicalVaporDepsition（物理氣相沉積）的縮寫(xiě)，是指在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用真空鍍膜設備氣體放電使鈦板蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離，利用電場(chǎng)的加速作用，使被蒸發(fā)物質(zhì)及其反應產(chǎn)物沉積在工件上。PVD鍍膜通常稱(chēng)謂：金屬表面處理，鍍膜，鍍鈦，真空鍍鈦，鍍鉻，鍍鈦加工，PVD，表面處理，鈦板，表面處理加工，真空鍍膜加工，表面處理等.

鍍層選擇的幾點(diǎn)要求：零件的工作環(huán)境及要求絕大多數零件的電鍍要求有良好的防護性，環(huán)境因素是金屬材料發(fā)生腐蝕的根本條件，如大氣環(huán)境(工業(yè)性大氣、海洋性大氣)、工作溫度、濕度、介質(zhì)性質(zhì)、力學(xué)條件等，所以環(huán)境因素是選擇鍍層首先考慮的問(wèn)題。與此同時(shí)，還應考慮電性能、磁性能等特定的功能。零件的種類(lèi)與性質(zhì)基體材料的種類(lèi)和物理、化學(xué)性質(zhì)對選擇鍍層的種類(lèi)和結構有著(zhù)很大的影響，如鋼鐵材料在一般性大氣中的防護鍍層應采用鍍鋅層、陽(yáng)極性鍍層、簡(jiǎn)單結構。由于銅、鎳、鉻相對于鋼鐵都是陰極性鍍層，要求鍍層應有較小的孔隙率和適當的厚度，而且還應根據材料的種類(lèi)選擇與其相應的前處理工藝，才可以獲得與集體結合良好的鍍層。

1．在機床運轉正常情況下，開(kāi)動(dòng)機床時(shí)，必須先開(kāi)水管，工作中應隨時(shí)注意水壓。2．在離子轟擊和蒸發(fā)時(shí)，應特別注意高壓電線(xiàn)接頭，不得觸動(dòng)，以防觸電。3．在用電子鍍膜時(shí)，應在鐘罩外圍上鋁板。觀(guān)察窗的玻璃好用鉛玻璃，觀(guān)察時(shí)應戴上鉛玻璃眼鏡，以防X射線(xiàn)侵害人體。4．鍍制多層介質(zhì)膜的鍍膜間，應安裝通風(fēng)吸塵裝置，及時(shí)排除有害粉塵。